尽管Intel并不愿意过早透露其22nm
三栅制程的细节,但这并不能阻止外界对其制程工艺的合理猜测,虽然这些猜测目前还不能100%获得Intel的肯定。最近Semimd网站的Ed
Korczynski就对Intel 22nm三栅制程中鳍漏源极杂质掺杂方法进行了很大胆的推测。
在Intel正式对外公布22nm三栅制程之前,相信大家都听说过这两则新闻,一是半导体制造设备厂商应用半导体公司刚好完成了对另一家设备厂
商Varian的收购,后者一直是业内唯一一家推出商用化的等离子体掺杂型(Plasma
Doping)离子注入设备的厂家;另外一则则是应用半导体公司今年3月份自己也推出了...
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